【资料图】
【太不谦虚了】#芯片##半导体# 国内半导体某大厂老大的发言:刻蚀机:存储产线:CCP刻蚀:目前国内市占35%,近期目标85%ICP刻蚀:目前市占9.6%,近期目标65%逻辑产线:CCP刻蚀:目前国内市占24%,近期目标60%ICP刻蚀:目前市占很少,近期目标75%成膜设备:国内3-4家成膜设备的企业,技术进步明显,工艺覆盖协同配合,预计2025年,可以完成薄膜沉积设备功能上的完整覆盖——市场覆盖还需更多时间。【资料图】
【太不谦虚了】#芯片##半导体# 国内半导体某大厂老大的发言:刻蚀机:存储产线:CCP刻蚀:目前国内市占35%,近期目标85%ICP刻蚀:目前市占9.6%,近期目标65%逻辑产线:CCP刻蚀:目前国内市占24%,近期目标60%ICP刻蚀:目前市占很少,近期目标75%成膜设备:国内3-4家成膜设备的企业,技术进步明显,工艺覆盖协同配合,预计2025年,可以完成薄膜沉积设备功能上的完整覆盖——市场覆盖还需更多时间。下一篇:最后一页
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